第174章 光刻成功

申城电科所车间内。

程实指着图纸上的关键部位:“生产这款芯片,首先要解决硅片提纯问题。

必须采用区熔法提纯,把硅片纯度提高到 99.% 以上,也就是 9 个 9 的纯度。

北京化学试剂研究所的光刻胶已经送来了,纯度没问题,大家放心用。”

一位负责芯片生产的专家问道:“程实同志,0.08 微米制程,咱们的光刻机能不能达到要求?”

“能。” 程实肯定地说,“咱们的光刻机采用 13.5 纳米极紫外光光源,数值孔径 0.55。

单次曝光分辨率就能达到 8 纳米,生产 0.08 微米的芯片完全没问题。而且它每小时能处理 400-500 片晶圆,效率很高。”

他拿起笔,在图纸上标注:“光刻环节,要采用多重曝光技术,确保电路图案的精度。

蚀刻环节,用等离子体蚀刻技术,控制好蚀刻深度和均匀性,不能有丝毫偏差。

镀膜环节,要采用原子层沉积技术,保证薄膜的厚度均匀和附着力。”

谢三元皱了皱眉:“这些工艺要求都很高,工人能熟练操作吗?”

“能。” 程实看向谢三元,“之前的培训不是白做的,而且我会在车间现场指导。

另外,生产过程中,必须严格控制车间环境,温度保持在 23℃±2℃,湿度 45%±5%,空气中的尘埃粒子数每立方米不能超过 100 个。”

他强调道:“这款芯片是雷达的核心,性能直接决定了雷达的探测距离和抗干扰能力,绝对不能出任何差错。

每一个环节都要进行三次检测,第一次是硅片提纯后检测,第二次是光刻蚀刻后检测,第三次是封装测试后检测,不合格的产品一律销毁,绝不允许流入下一道工序。”

一位年轻的工程师问道:“程实同志,射频组件需要的芯片和这个是同一款吗?还是需要单独生产?”

“是同一款芯片。” 程实回答,“这款 XJ-01 芯片既能作为雷达的核心芯片,也能用于射频组件。

只要批量生产这款芯片,就能同时解决两个问题。

另外,射频组件需要的其他零件。

元件五厂已经能生产,谢厂长,你安排人同步生产射频组件的其他零件,等芯片出来,立刻组装。”

谢三元连忙点头:“没问题!我现在就去安排,让车间同步生产射频组件的零件,确保芯片一到就能组装完成。”